设备名称：粉体镀膜设备
设备型号：JGCF1000
镀膜方式：磁控溅射
真空腔室结构：Φ600mmxL1000mm
粉体 / 颗粒尺寸：≥ 20um
物料装载：槽式震动式，连续进料
产量：2000g
加热烘烤：可选
溅射源：矩形 / 圆柱靶
占地面积：L1620mm×W1060mm×H1900mm
总功率：≥ 20kW
控制方式：PLC/PC 控制 ( 可选 )
报警及保护系统：完善的逻辑程序互锁保护系统

1. 在微米级以上粉体颗粒表面沉积各种纳米级单层及多层导电膜、半导体膜、绝缘膜等；

2. 系统可用于粉体颗粒表面金属化，达到表面导电，例：碳化硅表面镀钛，氧化铝表面镀镍等 ;

3. 系统可用于粉体颗粒表面反射率的改变，应用于化妆品、汽车等高端外观粉体涂料，例：玻璃微珠镀氧化钛等；

4. 系统可用于粉体颗粒表面层成份改变，应用于新型合金材料改变其中某一成份含量；

5. 系统可用于粉体颗粒表面沉积新材料，有效提高粉体固化粘结强度，例：金刚石粉镀铬等

6. 广泛应用于粉体烧结、3D 打印原材料、粉体表面光学性能改变等行业及研究方向。

我公司**技术，粉体颗粒涂覆技术国内**，微米级粉体包覆率大于 90%，结合力好；

已能实现产品系列化满足科研及批量化生产之需求。