公司介绍
北京泰科诺科技有限公司成立于2003年，一直专注于真空薄膜新材料沉积设备、真空技术应用设备及其工艺的研发试制生产,是一家集研发、设计、制浩销售和服务于一体的高新技术企业，在行业内独树一帜。公司拥有一支由多位教授、博士等领衔的技术研发、顾问团队，具有较强的自主研发能力，确保了真空设备产品的高水平。同时建有研发镀膜工艺、服务客户的开放实验室，始终保持技术**优势。公司主要研发设计生产磁控溅射镀膜设备、电阻蒸发镀膜设备、电子東蒸发镀膜设备、离子東镀膜设备、多功能复合镀膜设备、粉体镀膜设备、CVD 金刚石涂层设备，高真空热处理炉，如高真空退火炉、高真空升华提纯炉、自耗式真空电弧炉等，以及应用型定制真空
主推产品
设备型号：JCP500真空腔室结构：立式前开门结构后置抽气系统真空腔室尺寸：Φ500mm×H420mm加热温度：室温～500℃基片台尺寸：Φ150mm膜厚不均匀性：Φ100mm范围内≤±5.0%溅射靶：Φ3英寸磁控靶3支兼容DC/MF/RF溅射工艺气体：2-3路气体流量控制控制方式：PLC/PC（可选）占地面积（主机）：L1900mm×W800mm×H1900mm总功率：≥10kW大专院校、科研院所及企业进行薄膜新材料的科研与小批量制备1.可提供工艺技术支持，及良好售后服务；2.设备结构紧凑，占地面积小，性价比高，性能稳定，使用维护成本低；3.单靶溅射/多靶依次溅射或共同溅射，兼容DC/MF/
设备型号：TEMD600镀膜方式：E型电子枪真空腔室结构：立式圆柱形侧开门结构，后置抽气系统真空腔室尺寸：Φ600mm×H750mm加热温度：室温～300℃基片台尺寸：平板型Φ350mm，或球罩型基片台(可选)膜厚不均匀性：≤±5.0%考夫曼离子源：可选蒸发源：电子枪10KW，６穴坩埚，国产／进口（可选），配２套电阻蒸发控制方式：PLC/PC（可选）占地面积：L2500mm×W1600mm总功率：≥17kW大专院校、科研院所及企业进行薄膜新材料的科研与小批量制备。1.设备一体化设计，占地面积小，性价比高，性能稳定，使用维护成本低；2.可用于生产线前期工艺试验等；3.实验室制备导电薄膜、半导体膜
设备名称：钙钛矿太阳能电池蒸发设备（镀膜机+手套箱复合型）设备型号：ZHDS400镀膜方式：金属+有机/无机蒸发真空腔室结构：SUS304方箱式，配有前、后门真空腔室尺寸：L400mmxW440mmxH450mm加热温度：室温-300℃（选配）基片台尺寸：抽屉式：120mmx120mm可旋转、升降、水冷膜厚不均匀性：≤±5.0%（120mmx120mm范围内）蒸发源：金属2组+有机4组或更多，有机配温控式加热电源，金属电源（国产或进口）晶振膜厚监控仪：国产或进口（可选）控制方式：PLC/PC控制(可选)占地面积：L2500mmxW1600mmxH1900mm(不含手套箱)总功率：≥10kW三相
高真空磁控溅射镀膜设备JCP500
面议高真空电子束蒸发镀膜设备TEMD600
面议钙钛矿太阳能电池蒸发设备
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电子束蒸发（Electron Beam Evaporation）是物理气相沉积的一种形式，其中待蒸发材料被来自带电钨丝的电子束轰击，当电子束撞击目标材料时，它的能量转化为热能，使目标材料达到蒸发的状态，并将其转化为气态，在高真空室中，这些蒸发的原子或分子随后沉积在基板上形成薄膜。电子束蒸发真空镀膜设备常见蒸镀蒸镀AR / AF涂层，硬质膜、装饰膜、ITO膜 、带通滤光片、HR膜等，具有效率高，它还
真空镀膜技术应用行业近年来发展迅速，在各个行业都有广泛的应用。真空镀膜技术用于表面改性和保护，以及提高产品的性能。该行业在设备、材料和工艺方面取得了重大进步，这导致了新涂层技术和应用的发展。在可再生能源行业，真空镀膜技术用于生产薄膜太阳能电池和节能照明。该技术还用于燃料电池和蓄电池的开发。真空镀膜技术的另一个重要应用是在电子设备的生产中。涂层可应用于半导体、显示器和其他电子元件，以提高其性能和耐用
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