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产品简介
设备名称:多功能磁控离子溅射复合镀膜设备
设备型号:TSU650
真空腔室结构:立式圆柱形前开门,双层水冷,多通用法兰接口
真空腔室尺寸:Φ650mm×H650mm
工件架尺寸:Φ490mm,4-6 工位公 / 自转工件架
工件架烘烤温度:室温~ 500±5℃,可调可控(PID 控温)
工件架运动方式:公转 0-5RPM 可调
辅助离子源:偏压、线性离子源辅助(可选)
阴极:矩形磁控靶、柱状靶、平面弧源、磁过滤弧源(可选) 国产或进口靶、或电源可选
控制方式:PLC 控制 / 工控机全自动控制可选
占地面积:主机 L2800mm×W1200mm×H1950mm
总功率:≥ 60kW
选购件:基片台加热系统、循环水机、膜厚控制系统等
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