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产品简介
设备型号：ZHDS400
镀膜方式：金属 + 有机蒸发
真空腔室结构：SUS304 方箱式，配有前、后门
真空腔室尺寸：L400mmxW440mmxH450mm
加热温度：室温-300℃（选配）
基片台尺寸：抽屉式：220mmx220mm可旋转、升降、水冷
膜厚不均匀性：≤±5.0%（120mmx120mm范围内）
蒸发源：金属 2 组 + 有机 4 组或更多，有机配温控式加热电源，金属电源 （国产或进口）
晶振膜厚监控仪：国产或进口 多探头可选
控制方式：PLC/PC 控制 ( 可选 )
占地面积：L2500mmxW1600mmxH1900mm( 不含手套箱 )
总功率：≥ 10kW 三相五线制
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