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热丝CVD金刚石膜沉积设备HF1200

热丝CVD金刚石膜沉积设备HF1200
  • 品牌:北京泰科诺
  • 产地:北京
  • 关注度:1056
  • 型号:热丝CVD金刚石膜沉积设备HF1200
  • 报价:面议
  • 信息完整度:
核心参数
    产品介绍

    设备名称:热丝 CVD 金刚石膜沉积设备

    设备型号:HF1200

    真空腔室结构:立式前开门结构,后置抽气系统,双层水冷

    真空腔室尺寸:Φ1200mmxH1200mm

    真空系统:高真空泵组系统

    基片台尺寸:Φ500mm²×600mm² 方形基片台(旋转、升降可选)

    衬底温度:600 ~ 1100℃

    电源:专用热丝电源 2200A, 恒流或恒功率模式

    气路控制:4 路气体流量控制

    控制方式:PC+PLC+ 触摸屏控制

    占地面积:主机 L5000mm×W3000mm×H4000mm

    总功率:≥ 300kW

    设备名称:热丝 CVD 金刚石膜沉积设备

    设备型号:HF1200

    真空腔室结构:立式前开门结构,后置抽气系统,双层水冷

    真空腔室尺寸:Φ1200mmxH1200mm

    真空系统:高真空泵组系统

    基片台尺寸:Φ500mm²×600mm² 方形基片台(旋转、升降可选)

    衬底温度:600 ~ 1100℃

    电源:专用热丝电源 2200A, 恒流或恒功率模式

    气路控制:4 路气体流量控制

    控制方式:PC+PLC+ 触摸屏控制

    占地面积:主机 L5000mm×W3000mm×H4000mm

    总功率:≥ 300kW


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    工商信息

    企业名称

    北京泰科诺科技有限公司

    企业类型

    信用代码

    9111011475217349XB

    法人代表

    注册地址

    成立日期

    注册资本

    有效期限

    经营范围

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    北京泰科诺科技有限公司
    客服电话

    400-810-00694101

    北京泰科诺科技有限公司成立于2003年,一直专注于真空薄膜新材料沉积设备、真空技术应用设备及其工艺的研发试制生产,是一家集研发、设计、制浩销售和服务于一体的高新技术企业,在行业内独树一帜。公司拥有一支由多位教授、博士等领衔的技术研发、顾问团队,具有较强的自主研发能力,确保了真空设备产品的高水平。同时建有研发镀膜工艺、服务客户的开放实验室,始终保持技术**优势。公司主要研发设计生产磁控溅射镀膜设备、电阻蒸发镀膜设备、电子東蒸发镀膜设备、离子東镀膜设备、多功能复合镀膜设备
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