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产品简介
设备型号：ZHD300 镀膜方式：多源金属蒸发真空腔室结构：玻璃钟罩 + 不锈钢底座真空腔室尺寸：Φ300mm×H360mm 加热温度：室温～ 250℃ 基片台尺寸：Φ100mm 膜厚不均匀性：Φ80mm 范围内≤ ±5.0% 蒸发源：2组金属蒸发源控制方式：PLC + 触摸屏控制占地面积：主机 L1100mm×W800mm 总功率：≥ 5kW 适用范围：大专院校、科研院所及企业进行薄膜新材料的科研与小批量制备
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